盖玻片对共聚焦荧光成像的影响
发布时间:2026-03-06 | 点击次数:次
在激光共聚焦显微镜成像实验中,通常使用盖玻片(常规厚度120 ~ 170 µm)来支撑样品。在实验过程中,我们发现盖玻片在特定激发光下会检测到有发光现象。那么共聚焦成像是否会受盖玻片的影响呢? 这对共聚焦荧光成像非常重要。
我们通过荧光光谱仪已经证实在405nm、488nm、559nm激光作用下,都不能激发盖玻片发光,且在400nm以下盖玻片几乎没有吸收。基于上述结果,我们首先观察盖玻片共聚焦三维成像、通过共聚焦对盖玻片进行光谱分析及酸洗前后盖玻片的发光现象进行比较,分析其是否与盖玻片表面可能粘附的物质相关。然后,通过荧光样品与盖玻片的不同贴合方式——荧光样品与盖玻片在同一焦平面和荧光样品与盖玻片不在同一焦平面,来分析盖玻片发光对共聚焦荧光成像的影响。
详情见:http://cpam.iccas.ac.cn/wdxz/gpzzl/
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